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无铅/无镉化学镀镍及无铬钝化工艺
返回页首 电镀铜工艺
  满足环保要求的无氰碱性镀铜工艺
CUPROBRITE 系列无氰碱铜工艺是为满足环保要求,专门为替代碱性氰化镀铜而开发的新工艺:
+ 独有的不含氰化物、非焦磷酸盐体系的光亮碱性镀铜工艺,具有超越氰铜的分散性能和覆盖性能以及电流效率,尤其在低电流密度范围内,具有极好微观分散性能;
+ 直接在经过除油、除锈、活化过的钢铁件、黄铜、铜、不锈钢、浸锌处理的铝及铝合金件、铝合金压铸件、锌合金压铸件、钕铁硼、无电沉镍或氨基磺酸盐镀镍镀层表面施镀,可生成无孔隙、细致、平滑、致密、柔软的铜镀层;
+ 可作为光亮镍、酸铜、镀锡、锡和焊接镀层的预镀铜层;也适用于热处理防渗碳掩盖层和EPI领域的相关应用;
+ 对五金件(铆钉、门把手、灯饰件等)有较好的装饰性,铜镀层可经氧化、发黑、着色处理形成一系列独特、吸引人的膜层;
+ 适用于滚镀与挂镀及连续式的生产线,操作简单,控制容易;单一添加,以浓缩形式提供.
    无氰鹼性鍍銅工藝CUPROBRITE NC-ALK-Cu 適用各種類型的產品作預鍍銅的流程上, 能應用於滾鍍,掛鍍和連續性電鍍;
+ 能取代典型的氰化物鍍銅工藝, 廣泛應用於電子產品,塑膠電鍍, 五金電鍍, 裝飾性電鍍;
+ 鍍層光亮、細緻、柔軟,有良好的分佈, 平滑柔软及優越的結合力;
+ 適用於鐵、鋼、青銅、鋅合金及鋁合金基材的工件上;
+ 預鍍後能直接鍍上酸銅、光亮鎳或鉻;
+ 能用作裝飾性的銅鍍層
  整平度超众的光亮酸铜
ULTRABRITE Cu 电镀光亮酸铜工艺:
+ 镀液控制简易,镀层填平度特佳;
+ 镀层不容易产生针孔,内应力低,延展性好;
+ 沉积速度极快,在4.5安培/平方分米的电流密度下,每分钟可镀出1微米的铜层,电镀时间因而缩短;
+ 电流密度范围宽阔,镀层填平度高达65%,电镀效果光亮性极好;
+ 杂质容忍度高,在使用长时间(约800-1000安培小时/升)后才需活性炭粉处理;
+ 镀层电阻率低,故非常适用于对物理性能要求高的电子工业;可应用于不同类型的基体金属,铜件、锌合金件、塑料件等同样适用.
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